L75 / High Pressure高溫膨脹儀
產(chǎn)品概述
品牌 | LINSEIS/林賽斯 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
為了測(cè)量數(shù)據(jù)和拓寬測(cè)量范圍,可以使用QMS和FTIR對(duì)逸出的氣體進(jìn)行分析。耦合后的功能超過(guò)單獨(dú)部件的總和。用戶(hù)通過(guò)LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件,采用不同數(shù)據(jù)庫(kù)對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行分析以得到*的結(jié)果。
L75 / High Pressure高溫膨脹儀技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
zui大壓力 | zui大150 bar | zui大100 bar |
真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
Al2O3 < 1750°C | Al2O3 < 1750°C | |
zui大樣品長(zhǎng)度 | 50 mm | 50 mm |
樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
可調(diào)樣品壓力 | zui大 1000 mN | zui大 1000 mN |
測(cè)量范圍 | 500 / 5000 µm | 500 / 5000 µm |
分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) |
氣氛 | 惰性, 氧化性, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性, 還原性, 真空 |
* 取決于不同爐體
* 不適用于石墨加熱爐
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